日本宣布7月开始限制六大类设备出口,将涉及TEL、KE、DNS、东京精密、Nikon、Ebara、日立高科技、爱德万、DISCO、LASERTEC等企业,也将利好一批中国企业。
(资料图片仅供参考)
半导体湿电子化学品与电子气体论坛2023将于4月26日在杭州召开。国际禁令对我国半导体设备与电子化学品和电子气体行业的影响,将是会议重点议题之一。
4月11日,容大感光在投资者互动平台表示,公司的光刻胶产品主要包括PCB用光刻胶、显示用光刻胶、半导体用光刻胶,其中半导体用光刻胶目前主要量产的产品为g线、i线正性/负性光刻胶,可用于LED芯片、分立器件、集成电路芯片等,目前芯片主要客户以6寸及以下的Fab为主,正在积极开拓8寸及12寸客户。随着公司对光刻胶的持续投入,将会逐步进入更高端光刻胶领域。
容大感光指出,目前公司已经购买i线投影步进式曝光机(i-line stepper),用于i线光刻胶的研发与生产检测。容大感光经过持续的投入,已经建立了完备的光刻胶研发与应用测试平台,其中主要测试设备包括光刻机、涂胶显影一体机、扫描电子显微镜、膜厚仪、台阶仪、液体颗粒仪、痕量金属杂质测试仪器、色谱仪、紫外-可见分光仪、水分仪、粘度计、固含测试仪器等。
容大感光称,公司生产感光干膜光刻胶使用的树脂主要是丙烯酸类感光树脂,目前基本上是外购。待正在建设的珠海工厂投产后,丙烯酸类感光树脂大部分将会自己生产。
4月4日,容大感光曾在投资者互动平台表示,目前中国大陆已经是全球最大的显示面板生产地,面板产能超过全球的60%以上,显示面板用的光刻胶市场空间广阔,而目前显示用光刻胶产品国产化率较低,如彩色光刻胶、黑色光刻胶、TFT Array正性光刻胶国产化率分别为:5%、5%、20%左右,国内光刻胶厂商进行技术突破从而实现光刻胶国产替代的发展空间仍然巨大;显示用光刻胶、半导体用光刻胶为公司近年推出的新产品,其销售额目前占公司总销售额的比例还较小,目前相关的产品正在向市场推进,相信随着我们的产品逐渐被市场所接受,显示用光刻胶、半导体用光刻胶将会成为公司业绩新的增长点。
根据公司透露,截止目前,公司显示用光刻胶、半导体光刻胶及配套化学品产能为1050吨,生产基地在广东省惠州市大亚湾石化区;其下游客户主要有莱宝高科、三安光电、TCL华星等。
来源:集微网
晶圆制造是当今工业制造皇冠上的明珠,高纯度湿电子化学品是晶圆制造过程中清洗、光刻、蚀刻等工艺流程的必备材料,也应用于后端的封装测试环节。SEMI预计2022年中国半导体用湿电子化学品市场规模为4.28亿美元,同比增长14.13%。
电子气体是半导体制造、显示制造等产业的主要耗材之一,是中国战略性新兴产业发展中必不可少的关键支持材料。近年来中国本土气体企业如派瑞特气、华特气体、南大光电等的部分产品已经进入国内外先进晶圆厂中。SEMI预计2022年国内电子气体市场规模可达11.13亿美元,同比增长14.15%。
未来三年将是中国半导体制造产业高速发展期,中芯国际、华虹宏力、长江存储、长鑫存储等企业加速扩产,格科微、鼎泰匠芯、华润微等企业布局的多条8/12英寸晶圆生产线也将陆续投产,这将带动国内高于全球湿电子化学品与电子气体的需求增速。半导体电子化学品及气体将迎来空前发展机遇。
此外,清洗与抛光、湿法刻蚀及光刻显影、去胶等步骤需要湿法制程设备。以半导体清洗设备为例,根据亚化咨询预测,2025年全球市场将达近41亿美元,此外,清洗设备的国产化率仅在20%左右。未来国内湿制程设备将迎来广阔机遇。
由瑞士万通黄金赞助的第四届半导体湿电子化学品与电子气体论坛2023将于4月26日在杭州召开。会议由亚化咨询主办,多家国内外龙头企业重点参与。
会议主题
半导体光刻功能性湿化学品及气体
半导体清洗剂的现状及替代品
半导体CMP抛光研磨液
含硅特种气体及其前驱体
半导体用大宗气体市场情况
半导体用干刻、清洗气体
电子级氢氟酸的纯化技术及技术发展
半导体级双氧水、硫酸在先进晶圆厂中的应用
半导体封装用电镀液市场及发展
清洗设备、涂胶显影设备与技术
湿法刻蚀设备的发展与国内技术
湿法制程与湿电子化学品的配套
最新会议日程如下:
会议日程 |
电子级超纯氨/氧化亚氮的生产及应用(题目暂定) ——苏州金宏气体股份有限公司(已定) |
PFA热模压精馏塔在湿电子化学品的应用 ——河南聚氟兴新材料科技有限公司(已定) |
赛默飞湿电子化学品关键指标检测技术解决方案 ——赛默飞世尔科技公司(已定) |
电子级硫酸的生产工艺及应用(题目暂定) ——联仕(昆山)化学材料有限公司(已定) |
离子色谱在高纯试剂检测方面的技术进展介绍 ——Metrohm瑞士万通中国有限公司(已定) |
泛半导体清洗设备介绍(题目暂定) ——北京华林嘉业科技有限公司(已定) |
全球半导体电子化学品需求及行业发展 ——Linx Consulting(已定) |
电子级氨水、双氧水在先进晶圆厂中的应用(题目暂定) ——苏州晶瑞化学股份有限公司(已定) |
TOPCon电池大产能湿法设备的技术及应用 ——苏州晶洲装备科技有限公司(已定) |
国内晶圆厂湿电子化学品需求展望 ——亚化咨询(已定) |
半导体用高纯NF3及SF6的市场及应用 ——中船重工(邯郸)派瑞特种气体有限公司(邀请中) |
半导体电镀液、清洗液工艺及应用 ——上海新阳半导体材料股份有限公司(邀请中) |
半导体级氢类特气介绍及应用 ——全椒南大光电材料有限公司(邀请中) |
电子级氢氟酸、双氧水的用量需求及行业发展 ——索尔维蓝天(衢州)化学品有限公司(邀请中) |
*以上演讲报告列表将随着会议邀请工作进展不断更新,最终版以会场发布为准。
若您有意向参会、赞助及做演讲报告,欢迎联系我们(联系方式请参见文中及文末配图)
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